因此，铜片plasma刻蚀在磁性隧道结等离子清洗机的刻蚀中，以IBE为代表的、无腐蚀副作用的离子铣削工艺始终占据一席之地。其面临的问题是剥离的金属材料在刻蚀过程中会重新沉积在侧壁上，难以去除后续的清洗工艺，即沉积在隧道势垒的侧壁上，对器件性能影响很大.层，它会导致直接短路。此外，二次沉积物的遮蔽效应
