离子处理后样品中Cs的高能端峰减少，青海真空式等离子处理机生产厂家低能端峰增加，整个Cls峰能谱变宽，处理后产生新的基团，曲线拟合结果为也证明了。稻田。具有这些电位的主要基团是CO、C-OH、CO、O-CO、CF-O和其他含氧基团。 Ar等离子处理后F2311表面的含氧基团显着增加。 Ar等离子体处
