然后它与有机污染物相互作用，等离子体刻蚀优缺点其中颗粒污染物反应或影响产生挥发性成分。在运行过程中通过气流和真空泵去除挥发性成分，以达到表面清洁、活化、蚀刻等最终目的。等离子设备是用于以下主要目的的理想格式： 1.等离子设备的表面改性； 2.等离子设备表面等离子清洗有机化合物； 3.等离子装置的结合
