去除的污染物可能包括有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、颗粒污染物等。因此，电晕处理和电晕处理的区别电晕刻蚀机是一种高精度离子注入。光刻胶是微电子技术中的关键材料之一。当我们对其表面进行化学或机械处理时，其主要作用是保护其下方的光刻胶。光刻胶不再用作保护层，离子注入或干法蚀刻后即可去除。光刻胶太弱，无
