硅片制造、pcb电路板和电晕在四氟化碳气体中的应用I.晶圆制造电晕应用领域在晶圆制造行业领域，电晕处理机灰尘怎么去除光刻机利用四氟化碳混合气体对单晶硅片进行线刻蚀，电晕利用四氟化碳进行氮化硅刻蚀和光刻胶去除。电晕可以用纯四氟化碳混合气体或四氟化碳与O2在微米级刻蚀晶片制造中的氮化硅，用四氟化碳与O2
