随着等离子弧输出量的增加，特氟龙等离子除胶机器模具和样品之间界面的去污力迅速增加，随着清洁速率的增加而迅速下降，随着基板厚度的增加略有下降。在真空等离子的情况下如果设备的清洗力超过附着力，或者企业单位的清洗力超过企业单位的附着力，附着在基材表面的污染源颗粒解决了附着力问题。防止等离子的熔点温度低于基
