冲洗下沉工艺技术参数设置如下：腔室压力15mitol，浙江射频等离子清洗机参数工艺本体流量300 ccm，时间3s；工艺工艺参数设置如下。 ：腔体压力15 mitol，工艺本体流量300 sccm，顶电极输出功率300 W，Time Ss等离子清洗包括刻蚀工艺领域，完全填充刻蚀工艺后硅片表面残留颗粒
