TTO表面的氧含量直接影响ITO的功函数，注入式等离子异味控制设备氧含量的增加导致ITO的费米能级降低，功函数增加。混合等离子体处理后，ITO的表面形貌发生了显着变化。等离子垫圈处理可以更好地改善ITO的表面形貌。同时，ITO表面的氧空穴显着增加，带负电的氧层集中在表面，增强ITO表面功函数的界面偶
