等离子体表面处理设备基本上是在特定真空条件下，氧化硅表面包覆氧化铝改性电离等特定场所产生的低压气体、光亮等离子体。简而言之，等离子表面处理设备的清洗需要处于真空状态（通常保持在Pa以上和以下），因此需要真空泵抽真空。其基本环节是将需要清洗的部件送入真空室固定，启动真空泵等装置，将真空度排至10Pa左
