随着压力的增加，蚀刻设备工程师做什么副产物不断积累，使选择性比不断降低，蚀刻结束。在5Pa条件下，有无氮化硅硬掩模的刻蚀图形基本相同，但在10Pa条件下，无氮化硅硬掩模时，图形密度较高的区域副产物或聚合物较多，刻蚀速率急剧下降，因此不同图形环境下的刻蚀深度差异较大；当压力为20Pa时，无论图形周围的
