CH3OH (methano，附着力促进剂lth也写作Me-OH)等离子体克服了该问题，可以看到 Me-OH等离子清洗机等离子体的蚀刻速率调节范围甚至超过了卤素等离子休)，同时由于具备对硬掩膜(通常为钽(Ta))极高的选择比，通过足够的过蚀刻就可以实现较直的蚀刻形状。对于低频射频放电，附着力促进剂l
