由于低压等离子体是低温等离子体，二氧化硅干法刻蚀掺入氧的作用当压力约为133～13.3 Pa时，电子温度达到10000开尔文，而气体温度仅为300开尔文，不燃烧基板，能量充足。用于表面处理。低压等离子发生器越来越多地用于表面处理工艺，例如等离子聚合、薄膜制备、蚀刻和清洗。 & EMSP; & EMS
