同时，云南等离子式除胶渣机速率O2 显着减慢了反应产生的聚合物的解离和去除速率，从而不断增加聚合物在感光元件表面的积累，完全保护介电材料免受大气等离子体的影响。可以做到。更清洁的等离子或化学蚀刻可避免二次条纹现象。此外，低偏置/源功率比也改善了第二边缘现象。这是因为偏压功率主要控制等离子体中的离子加
