等离子体产生的氧自由基非常活跃，二氧化硅plasma去胶设备很容易与碳氢化合物发生反应，生成二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性化合物，从而去除表面污染物。基于物理反应的等离子清洗，也称为溅射蚀刻（SPE）或离子铣削（IM），不会引起化学反应，清洗表面不会留下氧化物，因此可以保持被清洗物体的化学性质。有一
