在真空室内，二氧化硅干法刻蚀中掺入氧和氢的作用分别是什么通过射频电源在一定压力下形成高能等离激元，再对靶面进行等离子体跃迁加工，形成微脱离效应（调节等离子体跃迁时间可调节脱离深度，等离子体作用为纳米级，不会损伤加工靶），从而达到操作目的。常压等离子体清洗机反应等离子体是指等离子体中的活性颗粒能与难粘
