1983年因 Hexode-type RIE等离子清洗机蚀刻机的设计获得了该年度半导体奖。次年又因为半导体工业制定了等离子体蚀刻标准，pe表面活化获得半导体设备及材料协会所颁的SEMI奖。1993年底耀升为应用材料公司副总裁，管理全球商业营运。1994年因对半导体设备工业多年来的贡献获得SEMI终生
