除了射频清洗，CCP等离子表面清洗机器还可以对晶圆进行硫化银和氧化处理。用金属铜等方法很难在不损坏晶片的情况下去除银。使用 AP-1000 清洗机并使用氩气作为清洁剂。主体，清洗功率200-300W，清洗时间200-300s。它的容量为400cc，从射频等离子芯片的背面硫化。去除银和氧化银以确保贴片
