它非常灵活，icp刻蚀机工作流程允许用户移动和配置适当的等离子体蚀刻方法：反应等离子体 (RIE)、下游等离子体 (DOWNSTREAM)、定向等离子体。电感耦合等离子体蚀刻 (ICPE) 是化学和物理过程相结合的结果。其基本原理是ICP高频电源在低压下输出到环形耦合线圈，耦合辉光放电使混合蚀刻气体
