更重要的是，金属干法刻蚀和反应离子刻蚀无论被处理对象的衬底类型如何，等离子体清洗技术对半导体、金属和大多数高分子材料都有很好的处理效果，可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。该工艺易于实现自动化、数字化，可装配高精度控制制造设备，精确控制时间，并具有记忆功能。由于等离子体清洗工艺具有操作简单、精度高、
