氧气（O2）精密贴片、光源清洗等工艺较为常用。还有许多难以去除的氧化物可以用氢气 (H2) 清洗。但是，贴片电阻附着力只有在真空条件下具有出色的密封性能才能使用。还有许多独特的蒸气，例如（CF4）和（SF6）。蚀刻去除有机物的（效果）更加显着。但使用该类气体的前提是具有较强的耐腐蚀气路和中空结构，并
