常规的清洗方法并不完善，等离子气化熔融技术的实际案例清洗后往往会残留一层薄薄的污染物。但如果采用等离子体活化工艺进行清洗，弱化学键很容易被打破，即使污染物残留在几何形状非常复杂的表面，仍然可以去除。等离子体可以去除材料在储存或早期制造过程中附着在材料表面的高蒸气压挥发性气体化学转化而形成的油膜、微观
