圆柱形谐振腔 MPCVD 设备可用于通过增加沉积压力来增加等离子体密度，甘肃等离子晶原除胶机速率并实现金刚石薄膜在衬底台上的快速生长。提高功率密度的目的是通过改变石英管的位置、腔体的结构以及调谐板的柔性来实现的。沉积台下方放置石英管，以增加调谐板和调谐活塞在谐振腔内的运动范围，以达到减少等离子体污染
