国内等离子蚀刻机厂家面向自组装材料等离子蚀刻应用:在22nm以下工艺中，点阵激光和plasma缩短周期间距成为必要手段。一般做法是通过二次曝光，即重复照相蚀刻，来实现小尺寸、小直径图案的清晰度。这种方法已经成功地在鳍型场效应晶体管中批量生产，但毫无疑问，其成本将呈指数增长。许多缩微定义专家长期以来一
