光刻的目的 使外表具有疏水性，海南等离子表面清洗机原理增强基底外表与光刻胶的黏附性。光刻机作业原理 测量台、曝光台：承载硅片的作业台，也就是本次所说的双作业台。 光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。 能量操控器：操控终究照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
