滞后回线偏移小于 Ar ICP 也表明在 CH3OH 等离子清洁剂等离子蚀刻中存在化学反应。通过这种化学反应形成的含碳薄膜层吸收入射离子能量，江苏真空等离子表面处理机价格从而降低等离子体损伤（PID）。研究进展表明，通过优化 CH3OH/Ar 比，可以改善由反应离子刻蚀引起的材料不可避免的磁劣化所导
