等离子体处理设备的真空度包括真空室泄漏率、背真空、真空泵抽速和工艺蒸气进口流量。真空泵转速越高，氧等离子去胶背真空值越低，内部残留空气越少，铜载体与空气中氧等离子体反应的概率越小；当工艺蒸气进入时，形成的等离子体能与铜支架充分反应，未激发的工艺蒸气能带走反应物，铜支架的清洗效率（果实）会更好，不易变
