还原性的等离子体可通过降低整个表面的氟浓度，怎么降低金属附着力用羟基等官能团置换氟原子来解决这些问题。表面的羟基可提供支撑这些合成支架的定位点。 一些应用需要将主材料进行侵蚀。NF3，SF6，CF4等含氟的气体很适合用来刻蚀碳氢聚合物、硅以及氧化硅、氮化硅等材料。 1.满足您当前的需求：满足特定规格
